真空镀膜:靶材分类与产业链介绍(真空)

真空镀膜:靶材分类与产业链介绍(真空) 一、靶材介绍 靶材是半导体、显示面板、光伏等领域制备功能薄膜的核心原材料,存在工艺不可替代性。 由于是在溅射过程中被高速金属等离子体流轰击的目标材料,又称“溅

真空镀膜:靶材分类与产业链介绍(真空)

一、靶材介绍

靶材是半导体、显示面板、光伏等领域制备功能薄膜的核心原材料,存在工艺不可替代性。

由于是在溅射过程中被高速金属等离子体流轰击的目标材料,又称“溅射靶材”,纯度为99.95%以上,更换不同靶材可得到不同的膜系,实现导电或阻挡等功能。

不同应用的靶材品种性能要求各有侧重,重视高附加值的原料制备。

整体而言,靶材的纯度、致密度和成分均匀性、晶粒等对靶材性能都有一定影响,且针对不同的下游影响程度和侧重点有所不同。

▲ 溅射工艺原理图,资料来源:江丰电子招股书

二、靶材的分类

根据不同材质靶材可分为:金属靶材,陶瓷靶材,合金靶材。

根据不同应用领域可分为:

● 半导体靶材:

电极、布线薄膜:铝靶材,铜靶材,金靶材,银靶材,钯靶材,铂靶材,铝硅合金靶材,铝硅铜合金靶材等。

储存器电极薄膜:钼靶材,钨靶材,钛靶材等。

粘附薄膜:钨靶材,钛靶材等。

电容器绝缘膜薄膜:锆钛酸铅靶材等。

● 磁记录靶材:

垂直磁记录薄膜:钴铬合金靶材等。

硬盘用薄膜:钴铬钽合金靶材,钴铬铂合金靶材,钴铬钽铂合金靶材等。

薄膜磁头:钴钽铬合金靶材,钴铬锆合金靶材等。

人工晶体薄膜:钴铂合金靶材,钴钯合金靶材等。

● 光记录靶材:

相变光盘记录薄膜:硒化碲靶材,硒化锑靶材,锗锑碲合金靶材,锗碲合金靶材等。

磁光盘记录薄膜:镝铁钴合金靶材,铽镝铁合金靶材,铽铁钴合金靶材,氧化铝靶材,氧化镁靶材,氮化硅靶材等。

光盘反射薄膜:铝靶材,铝钛合金靶材,铝铬合金靶材,金靶材,金合金靶材等。

光盘保护薄膜:氮化硅靶材,氧化硅靶材,硫化锌靶材等。

● 显示靶材:

透明导电薄膜:氧化铟锡靶材,氧化锌铝靶材等。

电极布线薄膜:钼靶材,钨靶材,钛靶材,钽靶材,铬靶材,铝靶材,铝钛合金靶材,铝钽合金靶材等。

电致发光薄膜:硫化锌掺锰靶材,硫化锌掺铽靶材,硫化钙掺铕靶材,氧化钇靶材,氧化钽靶材,钛酸钡靶材等。

● 其他应用靶材:

装饰薄膜:钛靶材,锆靶材,铬靶材,钛铝合金靶材,不锈钢靶材等。

低电阻薄膜:镍铬合金靶材,镍铬硅合金靶材,镍铬铝合金靶材,镍铜合金靶材等。

超导薄膜:钇钡铜氧靶材,铋锶钙铜氧靶材等。

工具镀薄膜:氮化物靶材,碳化物靶材,硼化物靶材,铬靶材,钛靶材,钛铝合金靶材,锆靶材,石墨靶材等。

三、靶材产业链及市场

靶材制造产业链中主要环节为“金属提纯-靶材制造-溅射镀膜-终端应用”四个环节,各环节附加值的差异也遵从微笑曲线分布。

其中溅射镀膜是整个产业链中技术要求最高的环节,溅射薄膜的品质对下游产品的质量具有重要的影响。

▲ 资料来源:万联证券

从需求结构来看,显示用靶材占比最大、国内京东方和TCL等厂家份额有望超60%;半导体用靶材市场规模在两百亿元量级,技术要求最高,中国大陆及台湾市场占据半壁江山。

记录媒体(机械硬盘HDD为主)用靶材份额仅次于显示领域,HDD相对固态硬盘在服务器、数据中心等领域优势无可替代,但市场主要以海外为主光伏领域,当前薄膜电池以美国为主,HJT电池由于效率优势随着成本下降发展可期。

据中国产业信息网,靶材行业市场空间有望从当前200亿元水平增至2023年300亿元,3年CAGR9.7%较高增长。

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